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選擇等離子表面處理機時，需綜合考慮技術(shù)性能、應(yīng)用需求、操作便捷性、安全性等多方面因素，以確保設(shè)備能夠滿足實際生產(chǎn)或研發(fā)需求，并實現(xiàn)穩(wěn)定、安全的運行。一、技術(shù)性能...
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小型等離子清洗機是一種利用低溫等離子體技術(shù)對材料表面進行高效清潔、活化或改性的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于微電子、醫(yī)療器械、精密儀器、科研實驗等領(lǐng)域。其核心原理基于等離子體的物理和化學作用，能夠在不損傷材料的前提下，去除表面污染物、增強表面能、提高附著力。以下是其原理及優(yōu)點的詳細分析：氣體電離：在真空腔體內(nèi)，通過射頻(RF)電源或微波電源激發(fā)惰性氣體(如氬氣Ar、氦氣He)或反應(yīng)性氣體(如氧氣O2、氮氣N2、氫氣H2)，使其電離形成等離子體。等離子體特性：等離子體由高能電子、離子、自由基...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領(lǐng)域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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